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该专利名为“一种基于氢氧化钾去除铝材质表面氮化铝膜的方法”,申请于2026年1月,公开号为CN121852924A。根据专利摘要,这项技术归属于半导体设备零部件清洗领域,其工艺流程依次包括预处理、沉积物去除及后处理三个关键步骤。
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